Технология компактного EUV‑источника для производства 14‑нм микросхем представлена компанией Hefei Lumiverse Technology (Хэфэй), сообщила 21 ноября South China Morning Post.

Демонстрация разработки состоялась на научной конференции UltrafastX в конце октября. Компания совершенствует выпуск полупроводников, применяемых в промышленной автоматике и электромобилях. Китайские исследователи и инженеры сократили одну из самых сложных и дорогих технологий современного производства микросхем до размеров настольного компьютера и задействовали ее для изготовления 14‑нанометровых кристаллов.

Хотя 14‑нм решения уже не относятся к передовому уровню — коммерческие литейные предприятия вышли на 3‑нм нормы — этот класс остается сбалансированным по производительности, стоимости и эффективности и востребован в устройствах от промышленной автоматизации до электромобилей и умных носимых устройств.